По концентрациям основных цементирующих компонентов в ортзанде, их распределению внутри него и по периферии, а также по распределению валовых R2О3 можно представить несколько этапов продвижения ортзанда в сторону суходола и его роста вверх (рис. 12).

Первый этап — чисто гипотетический и реконструируется на основе полученных общих представлений. Предполагается, что за пределами катены, вблизи разреза 11—75, уже было сформировано тело ортзанда мощностью около 69 см (разрез 12—65), а в разрезе 11—75 развивался маломощный глубокий ортзанд, возможно типа выступа, а может быть, и фрагмент, отделенный от основного тела. Химический состав преобладающей части ортзанда в разрезе 11—75 сильно изменен современным элювиально-глеевым процессом. Вместе с тем его нижний слой пока, как можно предполагать, изменен слабо; здесь фиксируется повышенное содержание гумуса, аморфного и окристаллизованного железа по сравнению с тем же нижним слоем ортзанда в его более выдвинутой к суходолу части. Вероятно, процесс аккумуляции этих веществ был здесь более длительным.
Второй этап — ортзанд в разрезе 11—75 достиг значительной мощности (около 60 см), его боковая цементированная грань располагается между разрезами 11—75 и 7—75, а выступ выдвинут под разрез 7—75. Он оказывается в экологических условиях, близких к современным условиям разреза 8—75. Это положение ортзанда маркируется в разрезе 7—75 горизонтом Ort2, значительно обедненным валовыми и аморфными R2О3, окристаллизованным и силикатным железом; можно думать, что это был горизонт элювиально-глеевого надконтактного и гидрогенного выноса R2О3, сходный с горизонтом в разрезе 8—75. Наряду с этим выступ ортзанда отличался повышенной концентрацией гумуса и аморфного железа.
Третий этап — ортзанд достиг мощности, близкой к современной в разрезе 7—75, а его выступ оказывается под разрезом 9—75. Последний располагается у боковой грани ортзанда и сходен по строению профиля с разрезом R—75.
Четвертый этап — современное расположение ортзанда в катене.
Пятый этап — возможное положение ортзанда в ближайшем будущем. Его верхняя граница, очевидно, несколько приблизится к дневной поверхности за счет цементации горизонтов Вf и Bh. Нижняя и средняя его части прирастут за счет тех концентраций аморфных R2О3 и гумуса, которые уже образовались возле них.